8月27日下午，新加坡科技研究局潘冀生教授做客强磁场科学论坛，作题为《光电子能谱在半导体制造与工艺优化中的应用》的学术报告，报告会由强磁场中心材料科学部副主任陈峰主持。

潘冀生指出，随着半导体器件向高性能、高集成度发展，对材料表面和界面开展精准表征变得尤为关键。X 射线光电子能谱（XPS）具备优异的表面灵敏度与化学态分辨能力，是半导体领域重要的分析工具。报告重点介绍了利用XPS开展异质界面能带对齐测定的研究，讲解了能带偏移调控对改善器件性能的作用，同时结合纳米材料测试场景，剖析传统分析方法存在的不足，介绍了切实可行的处理方案。

报告交流环节，参会人员与潘冀生围绕科研实际问题展开交流。陈峰为潘冀生颁发了强磁场科学论坛纪念证书。

潘冀生现任新加坡科技研究局材料工程研究院与新加坡国家半导体技术创新中心首席科学家，光电子能谱课题组组长，长期致力于光电子能谱技术开发以及微电子薄膜的表面、界面表征研究，主持并参与了多项由半导体、航空航天企业资助的科研项目，曾获新加坡科技研究局航空航天项目成就奖、新加坡认证委员会评审员银奖，并兼任多家学术期刊编委。

会议现场

颁发纪念证书